Отрывок: Для изготовления пресс-формы используются металлы, полупроводники и диэлектрики, как правило, применяя метод электронной литографии. Рисунок 7 - Схема нанопечатной литографии (остатки резиста на вдавленных участках анизотропно вытравливаются): 1 - подложка, 2 - резист, 3 - штамп Метод нанопечатной литографии лишён основных проблем других литографических методов, таких как эффекты близости, диффузионный предел, а та...
Полная запись метаданных
Поле DC Значение Язык
dc.contributor.authorХоробров В. С.ru
dc.contributor.authorПаранин В. Д.ru
dc.contributor.authorМинистерство науки и высшего образования Российской Федерацииru
dc.contributor.authorСамарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет)ru
dc.contributor.authorИнститут информатикиru
dc.contributor.authorматематики и электроникиru
dc.coverage.spatialтехнологические процессыru
dc.coverage.spatialэлектронная литографияru
dc.coverage.spatialшаблонru
dc.coverage.spatialBOSCH процессыru
dc.coverage.spatialкремниевая подложкаru
dc.coverage.spatialмаскаru
dc.coverage.spatialмаскирующие покрытияru
dc.coverage.spatialсухое травлениеru
dc.creatorХоробров В. С.ru
dc.date.issued2020ru
dc.identifierRU\НТБ СГАУ\ВКР20200914152041ru
dc.identifier.citationХоробров, В. С. Получение маскирующих покрытий методом электронной литографии для сухого травления : вып. квалификац. работа по направлению подгот. 11.03.04 "Электроника и наноэлектроника" (уровень бакалавриата) / В. С. Хоробров ; рук. работы В. Д. Паранин ; М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики, математики и электроники, Фак-т. - Самара, 2020. - on-lineru
dc.description.abstractПроведён поиск необходимой литературы в области микро- и нанотехнологий. Обоснована целесообразность использования конкретных методов травления и литографии для проведения технологического процесса. Проведена оптимизация технологического процесса сухого травления приповерхностного слоя кремния. В ходе ВКР была получена технология прямого литографического процесса с высоким разрешением и возможностью создания квазинепрерывного профиля, позволяющая производить быстрое прототипирование устройств в приповерхностном слое кремния.ru
dc.format.extentЭлектрон. дан. (1 файл : 1,7 Мб)ru
dc.titleПолучение маскирующих покрытий методом электронной литографии для сухого травленияru
dc.typeTextru
dc.subject.rugasnti47.13.11ru
dc.subject.udc621.3.049.77ru
dc.textpartДля изготовления пресс-формы используются металлы, полупроводники и диэлектрики, как правило, применяя метод электронной литографии. Рисунок 7 - Схема нанопечатной литографии (остатки резиста на вдавленных участках анизотропно вытравливаются): 1 - подложка, 2 - резист, 3 - штамп Метод нанопечатной литографии лишён основных проблем других литографических методов, таких как эффекты близости, диффузионный предел, а та...-
Располагается в коллекциях: Выпускные квалификационные работы

Файлы этого ресурса:
Файл Размер Формат  
Хоробров_Виталий_Сергеевич_Получение_маскирующих_покрытий_методом.pdf1.71 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть  
Показать базовое описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.