Отрывок: Сначала нужно рассмотреть процессы образования химических соединений, которые происходят на поверхности мишени в плазме магнетронного разряда. Было установлено, что на поверхности мишени зачастую образуется диэлектрическая плёнка (в основном нитрид или оксид металла), которая затрудняет процесс распыления атомов мишени на подложку и изменяет эмиссионные...
Полная запись метаданных
Поле DC Значение Язык
dc.contributor.authorФедичкин А. П.ru
dc.contributor.authorХаритонов С. И.ru
dc.contributor.authorСаноян А. Г.ru
dc.contributor.authorМинобрнауки Россииru
dc.contributor.authorСамарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет)ru
dc.contributor.authorИнститут информатикиru
dc.contributor.authorматематики и электроникиru
dc.coverage.spatialLift-Off процессыru
dc.coverage.spatialкоэффициент поглощенияru
dc.coverage.spatialреактивное магнетронное распылениеru
dc.coverage.spatialпоказатель преломленияru
dc.creatorФедичкин А. П.ru
dc.date.issued2019ru
dc.identifierRU\НТБ СГАУ\ВКР20190808103833ru
dc.identifier.citationФедичкин, А. П. Исследование технологии получения диэлектрических пленок с помощью реактивного магнетронного распыления : вып. квалификац. работа по направлению подгот. "Электроника и наноэлектроника" (уровень бакалавриата) / А. П. Федичкин ; рук. работы С. И. Харитонов ; нормоконтролер А. Г. Саноян ; Минобрнауки России, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики, математики и электроники,. - Самаpа, 2019. - on-lineru
dc.description.abstractВ данной работе рассматриваются вопросы, связанные с методами реактивного магнетронного напыления.Цель работы – отработать технологию получения пленок Si3N4, Al2O3, TiO2 методом реактивного магнетронного распыления на установке ЭТНА-100МТ.Рассмотрены достоинства и недостатки метода напыления диэлектрических покрытий методом реактивного магнетронного распыления. Исследованы влияния технологических параметров реактивного магнетронного распыления на качество диэлектрического покрытия. Был получен и исследован ряд диэлектрических покрытий, состоящий из соединений: Al2O3, Si3N4, TiO2.ru
dc.format.extentЭлектрон. дан. (1 файл : 2,8 Мб)ru
dc.titleИсследование технологии получения диэлектрических пленок с помощью реактивного магнетронного распыленияru
dc.typeTextru
dc.subject.rugasnti34.65ru
dc.subject.udc621.78ru
dc.textpartСначала нужно рассмотреть процессы образования химических соединений, которые происходят на поверхности мишени в плазме магнетронного разряда. Было установлено, что на поверхности мишени зачастую образуется диэлектрическая плёнка (в основном нитрид или оксид металла), которая затрудняет процесс распыления атомов мишени на подложку и изменяет эмиссионные...-
Располагается в коллекциях: Выпускные квалификационные работы

Файлы этого ресурса:
Файл Размер Формат  
Федичкин_Александр_Павлович_Исследование_технологии_получения_диэлектрических.pdf2.89 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть  
Показать базовое описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.