Отрывок: Сначала нужно рассмотреть процессы образования химических соединений, которые происходят на поверхности мишени в плазме магнетронного разряда. Было установлено, что на поверхности мишени зачастую образуется диэлектрическая плёнка (в основном нитрид или оксид металла), которая затрудняет процесс распыления атомов мишени на подложку и изменяет эмиссионные...
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Федичкин А. П. | ru |
dc.contributor.author | Харитонов С. И. | ru |
dc.contributor.author | Саноян А. Г. | ru |
dc.contributor.author | Минобрнауки России | ru |
dc.contributor.author | Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет) | ru |
dc.contributor.author | Институт информатики | ru |
dc.contributor.author | математики и электроники | ru |
dc.coverage.spatial | Lift-Off процессы | ru |
dc.coverage.spatial | коэффициент поглощения | ru |
dc.coverage.spatial | реактивное магнетронное распыление | ru |
dc.coverage.spatial | показатель преломления | ru |
dc.creator | Федичкин А. П. | ru |
dc.date.issued | 2019 | ru |
dc.identifier | RU\НТБ СГАУ\ВКР20190808103833 | ru |
dc.identifier.citation | Федичкин, А. П. Исследование технологии получения диэлектрических пленок с помощью реактивного магнетронного распыления : вып. квалификац. работа по направлению подгот. "Электроника и наноэлектроника" (уровень бакалавриата) / А. П. Федичкин ; рук. работы С. И. Харитонов ; нормоконтролер А. Г. Саноян ; Минобрнауки России, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики, математики и электроники,. - Самаpа, 2019. - on-line | ru |
dc.description.abstract | В данной работе рассматриваются вопросы, связанные с методами реактивного магнетронного напыления.Цель работы – отработать технологию получения пленок Si3N4, Al2O3, TiO2 методом реактивного магнетронного распыления на установке ЭТНА-100МТ.Рассмотрены достоинства и недостатки метода напыления диэлектрических покрытий методом реактивного магнетронного распыления. Исследованы влияния технологических параметров реактивного магнетронного распыления на качество диэлектрического покрытия. Был получен и исследован ряд диэлектрических покрытий, состоящий из соединений: Al2O3, Si3N4, TiO2. | ru |
dc.format.extent | Электрон. дан. (1 файл : 2,8 Мб) | ru |
dc.title | Исследование технологии получения диэлектрических пленок с помощью реактивного магнетронного распыления | ru |
dc.type | Text | ru |
dc.subject.rugasnti | 34.65 | ru |
dc.subject.udc | 621.78 | ru |
dc.textpart | Сначала нужно рассмотреть процессы образования химических соединений, которые происходят на поверхности мишени в плазме магнетронного разряда. Было установлено, что на поверхности мишени зачастую образуется диэлектрическая плёнка (в основном нитрид или оксид металла), которая затрудняет процесс распыления атомов мишени на подложку и изменяет эмиссионные... | - |
Располагается в коллекциях: | Выпускные квалификационные работы |
Файлы этого ресурса:
Файл | Размер | Формат | |
---|---|---|---|
Федичкин_Александр_Павлович_Исследование_технологии_получения_диэлектрических.pdf | 2.89 MB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать базовое описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.