Отрывок: Недостатки:  при использовании фотошаблонов их дороговизна;  при использовании электронной пушки – влияние фольго- вого шаблона на электронный пучок. Тем не менее, хочу еще раз отметить существенное преиму- щество использования масштабирования рисунка. Изготавливая любой шаблон мы выполняем заданные размеры с определенной точностью, например ±1 мкм. При масштабировании 10:1 допуск на размер соответственно уменьшается до ±0,1 мкм. Так...
Полная запись метаданных
Поле DC Значение Язык
dc.contributor.authorАрхипов А. В.ru
dc.contributor.authorСоветкина М. А.ru
dc.contributor.authorМинистерство науки и высшего образования Российской Федерацииru
dc.contributor.authorСамарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет)ru
dc.coverage.spatialбиполярные структурыru
dc.coverage.spatialдиэлектрические подложкиru
dc.coverage.spatialзащита интегральных микросхемru
dc.coverage.spatialинтегральные микросхемы (ИМС)ru
dc.coverage.spatialмежэлементная коммутацияru
dc.coverage.spatialмезатехнологияru
dc.coverage.spatialметод безтигельной зонной плавкиru
dc.coverage.spatialметод Чохральскогоru
dc.coverage.spatialметоды изоляцииru
dc.coverage.spatialмногослойная металлизацияru
dc.coverage.spatialмногоуровневая металлизацияru
dc.coverage.spatialоднослойная алюминиевая металлизацияru
dc.coverage.spatialпланарная технологияru
dc.coverage.spatialполупроводниковая электронная компонентная базаru
dc.coverage.spatialполупроводниковые подложкиru
dc.coverage.spatialсборка интегральных микросхемru
dc.coverage.spatialтехнологии изготовления ЭКБru
dc.coverage.spatialтехнологические процессыru
dc.coverage.spatialтехнология керамикиru
dc.coverage.spatialтехнология ситалловru
dc.coverage.spatialтехнология стеклаru
dc.coverage.spatialтиповые технологические маршруты изготовленияru
dc.coverage.spatialтолстопленочная технологияru
dc.coverage.spatialтонкопленочная технологияru
dc.coverage.spatialучебные изданияru
dc.coverage.spatialэлектронная компонентная база (ЭКБ)ru
dc.coverage.spatialэпитаксиальное наращивание полупроводниковых слоевru
dc.creatorАрхипов А. В., Советкина М. А.ru
dc.date.accessioned2022-08-01 11:25:07-
dc.date.available2022-08-01 11:25:07-
dc.date.issued2022ru
dc.identifierRU\НТБ СГАУ\486221ru
dc.identifier.citationАрхипов, А. В. Основы технологии электронной компонентной базы : учеб. пособие / А. В. Архипов, М. А. Советкина ; М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т). - Самара : Изд-во Самар. ун-та, 2022. - 1 файл (3,56 Мб). - ISBN = 978-5-7883-1750-2. - Текст : электронныйru
dc.identifier.isbn978-5-7883-1750-2ru
dc.identifier.urihttp://repo.ssau.ru/handle/Uchebnye-izdaniya/Osnovy-tehnologii-elektronnoi-komponentnoi-bazy-98334-
dc.description.abstractГриф.ru
dc.description.abstractИспользуемые программы: Adobe Acrobat.ru
dc.description.abstractПособие представляет собой материал курса «Основы технологии электронной компонентной базы». Предназначено для обучающихся по направлениям подготовки 11.03.03 Конструирование и технология электронных средств, 11.03.04 Электроника и наноэлектроника, а также может быть полезно при изучении основ технологии электронной компонентной базы на смежных специальностях. Подготовлено на кафедре наноинженерии Самарского университета.ru
dc.description.abstractТруды сотрудников Самар. ун-та (электрон. версия).ru
dc.language.isorusru
dc.publisherИзд-во Самар. ун-таru
dc.titleОсновы технологии электронной компонентной базыru
dc.typeTextru
dc.subject.rugasnti47.33ru
dc.subject.udc621.382.049.77(075)ru
dc.textpartНедостатки:  при использовании фотошаблонов их дороговизна;  при использовании электронной пушки – влияние фольго- вого шаблона на электронный пучок. Тем не менее, хочу еще раз отметить существенное преиму- щество использования масштабирования рисунка. Изготавливая любой шаблон мы выполняем заданные размеры с определенной точностью, например ±1 мкм. При масштабировании 10:1 допуск на размер соответственно уменьшается до ±0,1 мкм. Так...-
Располагается в коллекциях: Учебные издания

Файлы этого ресурса:
Файл Размер Формат  
978-5-7883-1750-23.64 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать базовое описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.