Отрывок: Зазор между трафаретом и подложкой составлял 0,25... 1 мм. Подложка фиксировалась с помощью вакуумного присоса. Температура сушки составляла 1500С в течение 15 мин. Высокотемпературная термообработка проводящих слоев проводилась при температуре рабочей зоны печи 8500С в течение 18 мин. Для резистивных слове она составляла 8400С в течение 10 минут. На основании полученных данных были построены точностные диаграм­ мы, позволя...
Название : Исследование технологического процесса изготовления пленочных резисторов для устройств СВЧ техники
Авторы/Редакторы : Столбиков А. В.
Пиганов М. Н.
Дата публикации : 2005
Библиографическое описание : Столбиков, А. В. Исследование технологического процесса изготовления пленочных резисторов для устройств СВЧ техники / А. В. Столбиков ; науч. руководитель М. Н. Пиганов // VIII Королевские чтения: Всерос. молодежн. науч. конф. с междунар. участием, 4-6 окт. 2005 г. : сб. тр. / М-во образования и науки Рос. Федерации; Федер. агентство по образованию; Адм. Самар. обл.; Самар. науч. центр Рос. акад. наук; Самар. гос. аэрокосм. ун-т им. С. П. Королева; Гос. науч.-произв. ракет.- косм. центр "ЦСКБ - Прогресс"; ред. И. В. Белоконов. - Самаpа : СГАУ, 2005. - С. 264.
Другие идентификаторы : RU\НТБ СГАУ\458740
Ключевые слова: точностные диаграммы
толстопленочные микросборки
СВЧ устройства
метод сеткотрафаретной печати
пленочные резисторы
Располагается в коллекциях: Королевские чтения

Файлы этого ресурса:
Файл Размер Формат  
Стр. 264.pdf50.97 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.