Отрывок: Сни жение давления достигается введением дополнительных термо катода и анода, между которыми зажигается электрический раз ряд. Поток плазмы, создаваемый этим разрядом, инжектируется в зону распыления. При подаче на катод высокого отрицательного потенциала происходят отбор и ускорение ионов из плазмы, а также распыление загрязняющих поверхность подложек приме сей при их расположении на катоде. Формированию плазменного потока заданной фо...
Название : | Ионно-плазменная очистка поверхности подложек оптических материалов |
Авторы/Редакторы : | Колпаков В. А. Федеральное агентство по образованию Самарский государственный аэрокосмический университет им. С. П. Королева |
Дата публикации : | 2008 |
Издательство : | [Изд-во СГАУ] |
Библиографическое описание : | Ионно-плазменная очистка поверхности подложек оптических материалов [Электронный ресурс] : [метод. указания к лаб. работе] / Федер. агентство по образованию, Самар. гос. аэрокосм. ун-т им. С. П. Королева ; [сост. В. А. Колпаков]. - Самара : [Изд-во СГАУ], 2008. - on-line |
Аннотация : | Труды сотрудников СГАУ (электрон. версия) Используемые программы: Adobe Acrobat |
Другие идентификаторы : | RU/НТБ СГАУ/WALL/СГАУ:5/И 755-811734 |
Ключевые слова: | оптические материалы ионно-плазменные технологии поверхность подложки |
Располагается в коллекциях: | Методические издания |
Файлы этого ресурса:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
Колпаков В.А.Ионно-плазменная чистка.pdf | 263.58 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать полное описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.