Отрывок: Сни­ жение давления достигается введением дополнительных термо­ катода и анода, между которыми зажигается электрический раз­ ряд. Поток плазмы, создаваемый этим разрядом, инжектируется в зону распыления. При подаче на катод высокого отрицательного потенциала происходят отбор и ускорение ионов из плазмы, а также распыление загрязняющих поверхность подложек приме­ сей при их расположении на катоде. Формированию плазменного потока заданной фо...
Название : Ионно-плазменная очистка поверхности подложек оптических материалов
Авторы/Редакторы : Колпаков В. А.
Федеральное агентство по образованию
Самарский государственный аэрокосмический университет им. С. П. Королева
Дата публикации : 2008
Издательство : [Изд-во СГАУ]
Библиографическое описание : Ионно-плазменная очистка поверхности подложек оптических материалов [Электронный ресурс] : [метод. указания к лаб. работе] / Федер. агентство по образованию, Самар. гос. аэрокосм. ун-т им. С. П. Королева ; [сост. В. А. Колпаков]. - Самара : [Изд-во СГАУ], 2008. - on-line
Аннотация : Труды сотрудников СГАУ (электрон. версия)
Используемые программы: Adobe Acrobat
Другие идентификаторы : RU/НТБ СГАУ/WALL/СГАУ:5/И 755-811734
Ключевые слова: оптические материалы
ионно-плазменные технологии
поверхность подложки
Располагается в коллекциях: Методические издания

Файлы этого ресурса:
Файл Описание Размер Формат  
Колпаков В.А.Ионно-плазменная чистка.pdf263.58 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать полное описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.