Отрывок: Кроме того, были отмечены области, в которых наблюдалась наиболее сильная неравномерность резистивной пленки. Зта область предлагается для расположения проводников и контактных площадок. АЛЬТШШДШНШ ТЕ&ЮДОГИЧЕСКИЛ ПРОЦЕСС ИЗГОТОВЛЕНИЯ РЕЗИСТИВНЫХ СТРУКТУР С.Г.Шмарин Научный руководитель - доцент Н.Я .Федосеева ...
Название : Метод корректировки фотошаблонов
Авторы/Редакторы : Валиуллин М. Н.
Федосеева Н. Я.
Дата публикации : 1995
Библиографическое описание : Валиуллин, М. Н. Метод корректировки фотошаблонов / М. Н. Валиуллин ; науч. руководитель Н. Я. Федосеева // Королевские чтения : всерос. студ. науч. конф. : тез. докл., [Самара, 4-5 окт. 1995г.] / Гос. ком. Рос. Федерации по высш. образованию, Самар. гос. аэрокосм. ун-т им. С. П. Королева ; ред. В. Г. Шахов. - Самара : [СГАУ], 1995. - С. 100.
Другие идентификаторы : RU\НТБ СГАУ\533868
Ключевые слова: корректировка размеров
корректировка фотошаблонов
методы корректировки
фотошаблоны
Располагается в коллекциях: Королевские чтения

Файлы этого ресурса:
Файл Размер Формат  
Стр.-100.pdf48.8 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать полное описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.