Отрывок: До и после облучения образцов осуществлялся контроль толщины и оптических свойств пленок, микрорельефа, спектров пропускания, рамановской спектроскопией. Контроль стехиометрического состава осуществлялся методом энергодисперсионного микроанализа. По результатам исследования было выявлено, что обработка пленок в режиме тока I = 10- 20мА и напряжения 750-800В является оптимальной при толщине пленок 500-1000нм. Не смотря на то, что обработка во внеэлектродной плазме незначительно сн...
Полная запись метаданных
Поле DC Значение Язык
dc.contributor.authorПодлипнов, В.В.-
dc.contributor.authorКолпаков, В.А.-
dc.contributor.authorPodlipnov, V.V.-
dc.contributor.authorKolpakov, V.A.-
dc.date.accessioned2018-05-22 10:10:14-
dc.date.available2018-05-22 10:10:14-
dc.date.issued2018-
dc.identifierDspace\SGAU\20180519\69701ru
dc.identifier.citationПодлипнов В.В. Исследование отжига тонких пленок CdTe во внеэлектродной плазме для фотовольтаики / В.В. Подлипнов, В.А. Колпаков // Сборник трудов IV международной конференции и молодежной школы «Информационные технологии и нанотехнологии» (ИТНТ-2018) - Самара: Новая техника, 2018. - С.440-442.ru
dc.identifier.urihttp://repo.ssau.ru/handle/Informacionnye-tehnologii-i-nanotehnologii/Issledovanie-otzhiga-tonkih-plenok-CdTe-vo-vneelektrodnoi-plazme-dlya-fotovoltaiki-69701-
dc.description.abstractВ работе изучалось влияние различных режимов работы источника внеэлектродной плазмы на свойства тонких пленок CdTe. В результате экспериментального исследования получены оптимальные режимы отжига, позволяющие минимально воздействуя на состав пленок, улучшать структурные свойства, микрорельеф, повышать степень кристаллического совершенства пленок CdTe. In the work, studies were made of the influence of various operating modes of the source of the off-electrode plasma on the properties of CdTe films. As a result of the experimental investigation, optimal annealing regimes were obtained, which allow minimally affecting the composition of the films, improve the structural properties, microrelief, and increase the degree of crystalline perfection of CdTe films.ru
dc.description.sponsorshipРабота выполнена при поддержке Федерального агентства научных организаций (соглашение № 007-ГЗ/Ч3363/26).ru
dc.language.isoenru
dc.publisherНовая техникаru
dc.subjectoff-electrode plasmaru
dc.subjectCdTeru
dc.subjectphotovoltaicru
dc.titleИсследование отжига тонких пленок CdTe во внеэлектродной плазме для фотовольтаикиru
dc.title.alternativeInvestigation of the annealing of CdTe films in an off- electrode plasma for photovoltaicsru
dc.typeArticleru
dc.textpartДо и после облучения образцов осуществлялся контроль толщины и оптических свойств пленок, микрорельефа, спектров пропускания, рамановской спектроскопией. Контроль стехиометрического состава осуществлялся методом энергодисперсионного микроанализа. По результатам исследования было выявлено, что обработка пленок в режиме тока I = 10- 20мА и напряжения 750-800В является оптимальной при толщине пленок 500-1000нм. Не смотря на то, что обработка во внеэлектродной плазме незначительно сн...-
Располагается в коллекциях: Информационные технологии и нанотехнологии

Файлы этого ресурса:
Файл Описание Размер Формат  
paper_67.pdfОсновная статья106.91 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать базовое описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.